SUSS erweitert Halbleiter-Portfolio mit neuem Reinigungssystem

SUSS Microtec erweitert sein Angebot für die Halbleiterindustrie um das Fotomasken-Reinigungssystem ASC9500. Die neue Anlage richtet sich an Hersteller, die etablierte Technologieknoten zwischen 38 und 90 Nanometern einsetzen. Die Plattform basiert auf einer überarbeiteten Architektur und lässt sich an unterschiedliche Produktionsanforderungen anpassen. Zudem integriert SUSS Reinigungstechnologien, die bislang seinen High-End-Systemen vorbehalten waren. Eine säurefreie UV-Reinigung soll den Chemikalienverbrauch und damit die Betriebskosten reduzieren.

Für den ASC9500 liegen nach Unternehmensangaben bereits konkrete Anfragen mehrerer Kunden vor. SUSS hat die Fertigung des Systems aufgenommen, nennt bislang aber weder Auftragsvolumen noch geplante Auslieferungstermine.

„Der Halbleitermarkt wird immer vielfältiger, und die Fertigung bei etablierten Technologieknoten erfordert sowohl größere Produktionskapazität als auch mehr Prozessflexibilität. Mit dem ASC9500 erneuern wir eine bewährte Reinigungsplattform und führen eine erweiterbare Lösung ein, die unsere Kunden auch dann noch einsetzen können, wenn sich ihre Anforderungen ändern oder weiterentwickeln”, so Yuta Nagai, Senior Vice President Photomask Solutions bei SUSS.

Mit der neuen Anlage will das Unternehmen zusätzliche Kundengruppen in der Halbleiterfertigung erschließen, insbesondere bei etablierten Fertigungsverfahren für Automobil- und Industrieelektronik sowie Leistungshalbleiter. Der ASC9500 ergänzt die bestehende ASx9500-Plattform, zu der bereits das System APB9500 für die Fotomaskenbearbeitung gehört.

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