Aixtron: Neues aus den USA
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Aixtron meldet Neuigkeiten aus dem US-Geschäft. Man werde eine Depositionsanlage des Typs Close Coupled Showerhead Metal-Organic Chemical Vapor Deposition für Verbindungshalbleitermaterialien an die Boise State University liefern, teilt das Unternehmen aus Aachen am Dienstag mit.
Zu den finanziellen Details macht Aixtron (WKN: A0WMPJ, ISIN: DE000A0WMPJ6, Chart, News) keine Angaben.
Die Anlage sei „ein wesentlicher Bestandteil einer Infrastrukturerweiterung, die der Boise State University zugesprochen wurde”, so Aixtron, und sei „in der Lage, sowohl Halbleitermaterialien auf atomarer Ebene als auch herkömmliche Halbleiterschichten im Wafermaßstab zu erzeugen”, sagt David Estrada, stellvertretender Direktor des Boise State Center for Advanced Energy Studies und außerordentlicher Professor an der Micron School of Materials Science and Engineering.
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